俄罗斯决定自研7nm的光刻机，计划2028 年量产，佩服他们的勇气，因荷兰ASML公司从65nm 到7nm 用了14 年。而俄罗斯在芯片制造没经验，没技术和供应商的支持准备从零开始，计划用6年研发 7nm 的机器量产。

想法很美好，现实很骨感。能否实现很难说，因ASML所研发的光刻机叫做投影式步进光刻机，而俄方面所研发的光刻机，叫做X射线光刻机。

图注：示范站方案。来源下诺夫哥罗德战略发展

晶圆厂设备不限于光刻机，他们就算造出光刻工具，俄罗斯还要数百台设备才能建晶圆厂，还面临为晶圆厂的超纯原材料已断供，关关难过关关过。不但技术难题要突破，还需要芯片供应商的支持。

图注：未来的三步骤。来源下诺夫哥罗德战略发展

有人说中俄能不能合作研发高端光刻机？我们已在合作远程宽体客机，也有人说华为麒麟有希望了，其实国内潜力不可小视，中芯国际就很有潜力。

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