我国首次突破30纳米级技术与加工精度，国产替代进口高端芯片。
上海企业已经实现14纳米先进工艺规模量产，90纳米光刻机、5纳米刻蚀机、12英寸大硅片、国产CPU、5G芯片等实现突破；半导体行业接连好消息，光刻机难题终于解决了
有人说ASML的光刻机已生产3纳米、2纳米了，开发90纳米光刻机有什么用？光刻机和芯片制程，是两回事。90纳米的光刻机前二次是测试45nm的芯片，后来进军22nm（虽然良品率有下降）。
将来iPhone15s的核心芯片是28nm制程。而市场上90%以上的需求都是28nm制程以上。所以90纳米的光刻机可以做很多事了。
它将开启光电芯片制造新赛道，在5G/6G通讯、光计算、人工智能等领域有广泛的应用前景。
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